該款石英真空等離子清洗機具備先進的石英腔體設計，具有優良的密封性能，有效防止氣體泄漏，提升設備安全性。其13.56MHz射頻等離子發生器能夠產生高密度的等離子體，這種高密度等離子體可以深入產品表面的微小結構，從而確保出眾的清洗和處理效果。這種高效的等離子體處理還有助于提升小型產品在實驗測試中的表現，滿足科研和工業領域對高精度和高純度表面處理的嚴苛要求。

一、設備用途

石英真空等離子清洗機是一種利用等離子體對材料表面進行清潔、活化和改性的設備，主要應用于以下場景：

表面清洗：去除有機物（如油脂、光刻膠）、氧化物及微顆粒污染物，提升表面潔凈度。

表面活化：通過等離子體轟擊增加材料表面能，改善后續工藝（如鍍膜、鍵合）的附著力。

表面改性：引入特定官能團（如-OH、-NH?），改變材料的親水性或化學活性。

刻蝕：精細刻蝕特定材料（如聚合物、氧化物），實現納米級結構加工。

典型應用領域：

半導體：晶圓清洗、光刻膠去除。

光學器件：鏡頭、濾光片鍍膜前處理。

生物醫療：植入器械表面消毒與活化。

封裝工藝：芯片鍵合前的表面處理。

二、工作原理

真空環境

真空腔室（通常壓力為0.1~10 Torr）的作用：

減少氣體分子碰撞，提高等離子體均勻性。

避免空氣干擾反應（如氧氣參與氧化）。

等離子體生成

激發方式：

射頻（RF）激發：通過高頻電場（13.56 MHz）電離氣體（如O?、Ar、CF?）。

微波激發：更高能量電離，適合大面積均勻清洗。

反應氣體選擇：

氧氣（O?）：氧化分解有機物。

氬氣（Ar）：物理轟擊去除表面污染物。

四氟化碳（CF?）：刻蝕硅或氧化物。

表面作用機制

物理轟擊：高能離子撞擊表面，剝離污染物。

化學反應：活性自由基與污染物反應生成揮發性氣體（如CO?、H?O）。

表面活化：等離子體打斷材料表面化學鍵，形成活性位點。

石英腔體優勢

耐高溫、耐腐蝕，避免金屬污染。

高透光性，便于光學監測或紫外輔助清洗。

三、操作流程

準備工作

樣品裝載：將待處理樣品放入石英腔體，避免遮擋等離子體區域。

氣路連接：根據工藝需求接入反應氣體（如O?、Ar）。

密封檢查：關閉腔門，確保O型圈完好。

抽真空

啟動機械泵，將腔體壓力抽至基礎真空（<1 Torr）。

開啟分子泵（若需高真空），達到設定壓力（如0.1 Torr）。

通入氣體與點火

調節質量流量計（MFC），控制氣體流量（如O?: 20 sccm）。

啟動射頻電源，逐步升高功率至等離子體穩定（可見輝光）。

清洗處理

設定處理時間（1~30分鐘），觀察等離子體均勻性。

實時監測腔體壓力和溫度（部分設備配備紅外測溫）。

結束流程

關閉射頻電源，停止氣體供應。

緩慢充入氮氣（N?）至常壓，取出樣品。

關閉真空泵，清潔腔體殘留物。

四、維護要點

石英腔體維護

清潔：使用無塵布蘸取乙醇或去離子水擦拭內壁，避免硬物刮擦。

檢查：定期觀察石英窗口是否污染或裂紋，必要時更換。

真空系統維護

泵維護：

機械泵每3個月更換一次專用油。

分子泵每年檢查軸承潤滑及散熱。

檢漏：使用氦檢漏儀檢測腔體與管路密封性。

電極與電源維護

射頻電極：定期清理表面沉積物（如用砂紙打磨），防止電弧放電。

匹配器校準：每月檢查射頻匹配器，確保阻抗匹配（減少反射功率）。

氣路系統維護

氣體過濾器：每季度更換氣體管路中的顆粒過濾器。

流量計校驗：每年使用標準流量計校準MFC精度。

安全防護

臭氧處理：臭氧發生器需定期檢查，避免泄漏。

接地保護：確保設備接地電阻<4Ω，防止靜電積累。

五、常見問題與解決

等離子體不穩定

原因：氣體流量波動、匹配器失調。

解決：檢查MFC及氣瓶壓力，重新校準匹配器。

清洗效果差

原因：功率不足、氣體選擇不當或樣品放置不合理。

解決：優化功率參數，更換反應氣體（如O?改為Ar/O?混合氣）。

真空抽不達標

原因：腔體漏氣、泵油污染。

解決：檢漏并更換密封圈，清洗或更換泵油。

六、安全注意事項

高壓防護：操作時禁止觸碰射頻電源及電極。

氣體安全：惰性氣體（如Ar）可能引發窒息，確保通風良好。

臭氧防護：臭氧（O?）有毒，需配備尾氣處理裝置。

石英真空等離子清洗機本機不僅在性能上表現還在成本控制上具有明顯優勢。它允許用戶在合適的預算內完成高質量的表面處理任務，實現成本效益的增長。配備的可視化觸摸屏使操作更為直觀，過程參數的實時監控功能讓用戶可以即時調整和優化操作設置，確保處理效果始終符合預期。

該設備支持多種工藝氣體，包括氬氣、氧氣、氫氣、氦氣和各種氟化氣體，適應不同的處理需求和工藝條件。高精度的氣體流量監測系統配合雙路工藝氣體配置（氬氣和氧氣），實現了雙路氣流的精確控制，用戶可以根據需要調整氣體比例，以達到最佳的處理效果。這種靈活的工藝氣體使用方式，配合精準的流量控制，進一步提高了設備的適用性和處理品質，是科研和工業領域理想的表面處理解決方案。

　　①可視化觸摸屏，過程參數實時監控。

　　②支持各種工藝氣體，包括氬氣，氧，氫，氦和氟化氣體。

　　③高精度氣體流量監測系統，兩路工藝氣體配置(氬氣、氧氣），雙路氣流控制，比例可調。